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固相插层制备纳米蒙脱土及其应用

摘要

本文提出了制备纳米蒙脱土的一种新方法——固相插层法,该方法是将高纯度蒙脱土与低分子活性齐聚物混合均匀后,在高温、高剪切力混炼条件下直接完成插层和剥离,具有加工简单、成本低、应用范围广的特点,可制备固含量较高的剥离型纳米蒙脱土.

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