电子束曝光SAL-601负性抗蚀剂技术研究

摘要

电子束曝光SAL-601(ER7)负性抗蚀剂主要用于凸立的精细线条图形制作,徐秋霞、刘明[1]等人已经成功地制备了线宽小于70nm的孤立线条(Isolated Line).本文重点研究小于50nm的孤立线条和精细线条(Density Lines)密集阵列图形的制备.