退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
中国半导体行业协会;
中国集成电路杂志社;
集成电路; 芯片制造; 刻蚀工艺; 反应离子刻蚀;
机译:深度反应离子刻蚀工艺参数对硅中通孔形成的影响
机译:电感耦合等离子体反应离子刻蚀工艺参数对金刚石纳米尖端制备的影响
机译:深度反应离子刻蚀工艺参数对TSV形成的影响
机译:反应离子刻蚀对CF_4 / Ar等离子体中掺碳的Ge_2Sb_2Te_5相变材料的影响
机译:流变学和相分析在熔体挤出中的应用:产品和工艺参数的影响
机译:反应离子刻蚀过程中紫外激光损伤对熔融石英光学器件中污染物浓度的影响
机译:工艺参数和添加剂对LSCF6428薄膜电泳沉积的影响(工艺参数和添加剂对电泳胶的影响沉积的LSCF6428膜)
机译:等离子体诱导损伤对离子注入Gaas mEsFET在反应离子刻蚀(RIE)和等离子体灰化过程中通道层的影响。
机译:工艺参数选择单元,工艺参数选择方法,工艺参数选择程序,程序记录介质以及包括工艺参数选择单元的制造工艺控制系统
机译:决定工艺参数,工艺参数或工艺参数两者以形成设计规则和系统的电路布局的工艺参数或设计规则以及半导体集成电路器件的方式和生产方式,以及
机译:半导体产品中的工艺参数调整-输入多个工艺参数并计算半导体的杂质浓度
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。