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气体电子倍增器(GEM)的性能研究

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本文采用真空热蒸发法在50μm的聚酰亚胺薄膜上蒸镀5~8μm的铜层,并用激光掩模打孔法在其上制备了孔径80μm、孔间距285μm的GEM复合薄膜,成功组装了20mm×20mm的GEM探测器.对GEM探测器在<'55>Fe X射线(5.9keV)辐照下进行了脉冲幅度分布谱测试,讨论了漂移区电场、AGEM电场、收集区电场对探测器记数的影响.

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来源
《上海市有色金属学会、上海市金属学会半导体材料专委会学术年会》|2004年|105-108|共4页
会议地点上海
作者
苏青峰; 夏义本; 王林军; 汪琳; 刘健敏; 史伟民;
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作者单位

中国有色金属学会;

中国金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
电子倍增器; X射线; 工作电场; 激光掩膜打孔; 漂移区电场;

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