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不同精抛布种类及抛布使用时间对硅片LPD缺陷影响

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摘要

在一定的抛光工艺条件下,精抛光布的选择及精抛光布使用时间的控制直接影响到最终抛光片表面小尺寸LPD缺陷的多少,因此通过实验确定适宜于自身抛光工艺的精抛布以及适宜的抛光布使用时间很有必要.

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来源
《2004年中国材料研讨会》|2004年|89-91|共3页
会议地点北京
作者
史舸; 刘振淮; 王文; 齐旭东; 熊诚雷; 黄振飞;
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作者单位

中国材料研究学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类表面处理;
关键词
硅片抛光; 亮点缺陷; 抛光布; 抛光工序;

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