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聚焦离子束诱导沉积铂的电阻率特性

摘要

聚焦离子束技术常被用于集成电路的修整与失效分析,通过切断某些金属连线和诱导沉积新的金属连线来测试所设计电路的特性.在低维材料的电输运性质研究中,它也常被用于制作微电极.因此,在这些应用中,采用聚焦离子束诱导沉积的金属本身的电学性质变得比较重要.在本文中,我们采用聚焦离子束诱导沉积方法制作了不同尺寸的铂线条,并测量了其电流-电压曲线.实验结果表明,所选用的束流密度对沉积的铂的电阻率有较大影响,当选择适当的束流密度进行沉积时,可获得最小的电阻率,束流密度过大或过小都将导致其电阻率变大.

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