三种中频对靶磁控溅射类金刚石膜的性能比较

摘要

利用带有SP20MB新型电源(具有三种可选择工作模式(连续DC(直流)、频率为40-kHz的脉冲DC和脉冲AC)的非平衡磁控溅射镀系统合成了一系列含铬无氢DLC(类金刚石)薄膜,考察了磁控靶电压波形对合成薄膜性能的影响.以扫描电子显微镜、纳米硬度计、划痕试验机、球-盘试验机等测试方法考察了包括表面形貌、显微硬度、结合力和摩擦磨损的综合性能.对比结果表明:磁控靶电压波形对脉冲磁控溅射的等离子体特性交化具有重要影响,并因此影响合成薄膜的性能;其中反向电压(即空位电压)的幅值和持续时间是关键因素.在脉冲DC磁控溅射模式下DLC膜的综合性能要比在脉冲AC和连续DC磁控溅射模式中合成的更优越.