taC:N电极中N浓度对其EIS行为的影响

摘要

本文使用磁过滤阴极真空弧(FCVA)技术制备了大量具有不同N含量、欧姆接触良好的taC:N电极，系统地研究了膜中N含量对taC:N电极EIS行为的影响。所有电化学交流阻抗谱是在1moUL HC104介质中得到的，根据taC:N电极在1mo1/L HCL04介质中的循环伏安图，选取电极电位E = OV(vs. SCE)在平台区域中，以排除法拉第电流对其的影响。