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胡志勇;
中国电子学会;
印制电路板; 无铅化合金; 金属化孔; 返修工艺; 铜分解; 电子装配; 镍合金;
机译:制冷剂泄漏时建筑物多空调现象的预测<通过实验/模拟和对策检查了解现象>
机译:短ssDNA分子通过受控分解制备的金属化纳米孔的传递时间长
机译:铜作为建材的腐蚀现象及对策
机译:铜和银金属化过程中无铅焊料中的孔形成
机译:通过设计焊接参数和PCB特性的实验,估算波峰焊和通孔返修过程中铜的相对溶解速率。
机译:从纳米孔铜中自发分离金属间Co3Mo作为多功能电催化剂用于高效水分解
机译:CXXXIX.-当正常铜酸咖啡酸乙酯加热时,对分解现象和产品的观察
机译:有机金属化学气相分解前体向alN的气相分解:(al(CH3)2NH2)3
机译:铜金属化的生产包括在基板中准备接触区域,在绝缘层中开孔以接触区域,在孔中沉积碳化钽氮化物阻挡层以及铜沉积层
机译:在湿法化学清洗半导体器件金属化层中裸露的铜表面时减少铜缺陷
机译:具有高纵横比的孔的工件的电解金属化,可用于电沉积铜,例如铜。到导电板上
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