高效多晶硅中石英坩埚内高纯隔离层的致密化处理

摘要

本文在高纯隔离层的基础上,通过级配的方法提升高纯隔离层结构的致密性并降低硅锭中的氧含量.GP隔离层使用级配的方法，通过实验筛析出合理的粒径大小及晶体与非晶体间的比例，将不同目数的粒径按照一定的比例组合搭配在一起，以达到较高的密实程度。铸锭过程中，HP隔离层中的粒子结构在高温下发生收缩变形从而导致孔隙率增加，硅液渗过孔隙。而GP隔离层中的粒子结构在高温下收缩后，小粒径和大粒径经重新组合后依然镶嵌在一起，使得涂层整体依然能够保持较低的孔隙率，阻挡硅液的侵蚀。通过对比可以发现铸锭后HP隔离层的表面孔隙大小相差极大，说明HP隔离层在高温下发生较剧烈的收缩，无法形成致密的结构。而GP隔离层的表面较为平整，相对保持了GP隔离层结构的完整性。即级配法能使GP高纯隔离层在高温下依然保持的较高的致密性。