激光光绘技术在MIC掩模版制作中的应用与实践

摘要

掩膜版制备是微波集成电路制作的重要环节。传统掩模版制作方法存在精度差、效率低等缺点，本文通过激光光绘技术在MIC掩模版制作中的实践和工艺探索，提出了以激光光绘技术改进掩模版制作工艺的一种可行途径。