紫铜样片沉积SiO2膜上地热水防垢研究

摘要

采用液相沉积法在经过打磨、抛光、清洗等处理的紫铜基底上制备厚度不同的SiO2 薄膜,以碳酸氢钠与无水氯化钙配制碳酸钙饱和溶液为工质,研究了未处理样片、抛光样片及沉积SiO2 薄膜样片在不同温度及时间下的表面结垢状况及结垢速率,结果表明,抛光样片的防垢能力最差,而SiO2 薄膜厚度为188.6nm的样片防垢性能较优,前者的结垢速率约为后者的2~3倍.