激光损伤的氧化铪薄膜的SPAM检测

摘要

扫描探针声显微镜(SPAM)是一种新型材料性能检测工具，它可以同时地原位地对试样表面和亚表面进行成像，采用不同的探针可探测纳米尺度下材料的各种特性。本文基于扫描探针声显微镜的两种声成像模式对SiO2基底上激光损伤的HfO2薄膜物理性质进行了检测。表面形貌像显示HfO2薄膜上激光损伤孔洞的深度接近于薄膜厚度。试样振动模式的声像表明在HfO2薄膜上光辐照后的热影响区比受损孔洞大、薄膜沉积过程略微不均，SiO2基底在抛光或者清洗过程中有损伤。而探针振动模式的声像表明HfO2薄膜上损伤区域对水的吸附性高于未损伤区域。