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Redistribution substrate having redistribution pattern including via seed patterns covering bottom surface and sidewall surface of wiring conductive patterns and semiconductor package including the same

机译:具有包括覆盖布线导电图案的底表面和侧壁表面的通孔种子图案的再分配图案的再分配基板和包括该再分配图案的半导体封装

摘要

Disclosed are redistribution substrates and semiconductor packages including the same. For example, a redistribution substrate including a dielectric pattern, and a first redistribution pattern in the dielectric pattern is provided. The first redistribution pattern may include: a first via part having a first via seed pattern and a first via conductive pattern on the first via seed pattern, and a first wiring part having a first wiring seed pattern and a first wiring conductive pattern, the first wiring part being disposed on the first via part and having a horizontal width that is different from a horizontal width of the first via part. Additionally, the first wiring seed pattern may cover a bottom surface and a sidewall surface of the first wiring conductive pattern, and the first via conductive pattern is directly connected to the first wiring conductive pattern.
机译:本发明公开了再分配基板和包括其的半导体封装。例如,提供了包括介电图案和介电图案中的第一再分布图案的再分布基板。第一重新分布图案可以包括:第一过孔部分,其具有第一过孔种子图案和第一过孔种子图案上的第一过孔导电图案,以及第一布线部分,其具有第一布线种子图案和第一布线导电图案,第一布线部分设置在第一过孔部分上,并且具有不同于第一过孔部分的水平宽度的水平宽度。此外,第一布线种子图案可以覆盖第一布线导电图案的底表面和侧壁表面,并且第一过孔导电图案直接连接到第一布线导电图案。

著录项

  • 公开/公告号US11348864B2

    专利类型

  • 公开/公告日2022-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD.;

    申请/专利号US202016885546

  • 发明设计人 SEOKHYUN LEE;GWANGJAE JEON;

    申请日2020-05-28

  • 分类号H01L23/498;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-25 01:18:57

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