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CROSS-POINT MEMORY ARRAY AND RELATED FABRICATION TECHNIQUES

机译:交叉点存储器阵列和相关的制造技术

摘要

Methods and apparatuses for a cross-point memory array and related fabrication techniques are described. The fabrication techniques described herein may facilitate concurrently building two or more decks of memory cells disposed in a cross-point architecture. Each deck of memory cells may include a plurality of first access lines (e.g., word lines), a plurality of second access lines (e.g., bit lines), and a memory component at each topological intersection of a first access line and a second access line. The fabrication technique may use a pattern of vias formed at a top layer of a composite stack, which may facilitate building a 3D memory array within the composite stack while using a reduced number of processing steps. The fabrication techniques may also be suitable for forming a socket region where the 3D memory array may be coupled with other components of a memory device.
机译:描述了交叉点存储器阵列的方法和装置和相关制造技术。 本文描述的制造技术可以促进同时构建设置在交叉点架构中的两个或更多个存储器单元的甲板。 每个存储器单元可以包括多个第一接入线(例如,字线),多个第二接入线(例如,位线),以及在第一访问线的每个拓扑交叉处的存储器组件和第二访问 线。 制造技术可以使用形成在复合叠层的顶层的通孔的图案,其可以在使用减少的处理步骤的同时便于在复合堆栈内构建3D存储器阵列。 制造技术也可以适合于形成套接字区域,其中3D存储器阵列可以与存储器件的其他组件耦合。

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