首页> 外国专利> SYSTEM AND METHOD FOR PERFORMING PROCESS MODEL CALIBRATION IN A VIRTUAL SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION ENVIRONMENT

SYSTEM AND METHOD FOR PERFORMING PROCESS MODEL CALIBRATION IN A VIRTUAL SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION ENVIRONMENT

机译:用于在虚拟半导体器件制造环境中执行流程模型校准的系统和方法

摘要

A virtual fabrication environment for semiconductor device fabrication that includes an analytics module for performing key parameter identification, process model calibration and variability analysis is discussed.
机译:用于半导体器件制造的虚拟制造环境,其包括用于执行关键参数识别的分析模块,讨论了过程模型校准和可变性分析。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号