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POLISHING LIQUID, CARRIER PARTICLE, METHOD FOR REDUCING CERIUM OXIDE, METHOD FOR POLISHING GLASS SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC-DISK GLASS SUBSTRATE

机译：抛光液，载体颗粒，减少氧化铈的方法，抛光玻璃基板的方法，制造玻璃基板的方法，以及制造磁盘玻璃基板的方法

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摘要

A polishing liquid for polishing a glass substrate includes cerium oxide as polishing abrasive particles, and a substance that reduces cerium oxide in response to irradiation of light.

机译：用于抛光玻璃基板的抛光液包括氧化铈，作为抛光磨料颗粒，以及响应于光照射而减少氧化铈的物质。

著录项

公开/公告号US2021348030A1

专利类型
公开/公告日2021-11-11

原文格式PDF
申请/专利权人 HOYA CORPORATION;
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申请/专利号US202117384061
发明设计人 HIROKI NAKAGAWA;KASHIO NAKAYAMA;
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申请日2021-07-23
分类号C09G1/02;B24B37/04;C09K3/14;C23C14/02;C23C14/34;G11B5/84;
国家 US
入库时间 2022-08-24 22:11:36

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