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LINEARIZED ENERGETIC RADIO-FREQUENCY PLASMA ION SOURCE

机译:线性化能量射频等离子体离子源

摘要

A plasma ion source includes a plasma chamber body having at least one inlet for introducing a feed gas to an interior of the plasma chamber body. The plasma chamber body is electrically isolated from a vacuum chamber attached to the plasma chamber body. An inductive antenna in an interior of the plasma chamber body is configured to supply a source of electromagnetic energy as a function of an RF voltage supplied thereto. The plasma ion source includes an extraction grid disposed at an end of the plasma chamber body. A voltage difference between the extraction grid and plasma chamber body accelerates charged species in a plasma discharge to generate an output quasi-neutral plasma ion beam. A bias voltage applied to the plasma chamber body includes a portion of the RF voltage supplied to the antenna combined with a pulsed DC voltage.
机译:等离子体离子源包括具有至少一个入口的等离子体室主体,用于将进料气引入等离子体室主体的内部。 等离子体室主体从附接到等离子体室主体附接的真空室电隔离。 等离子体室主体的内部的电感天线被配置为作为所提供的RF电压的函数来提供电磁能源。 等离子体离子源包括设置在等离子体室主体的一端的提取栅格。 萃取栅格和等离子体室主体之间的电压差加速了等离子体放电中的带电物质以产生输出准中性等离子体离子束。 施加到等离子体室主体的偏置电压包括提供给天线的RF电压的一部分与脉冲DC电压组合。

著录项

  • 公开/公告号EP3711078A4

    专利类型

  • 公开/公告日2021-09-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 DENTON VACUUM LLC;

    申请/专利号EP20180876928

  • 发明设计人 OUTTEN CRAIG A.;

    申请日2018-11-13

  • 分类号H01J23/08;F28D1/053;H01J37/32;H03K3/011;H05B6/72;H05H1/32;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-24 20:55:06

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