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High entropy alloy thin film coating and method for preparing the same

机译:高熵合金薄膜涂层及其制备方法

摘要

A method for preparing a high entropy alloy thin film coating includes preparing a melt alloy by arc melting raw materials including five or more elements, casting the melt alloy into a mold to form a target, placing the target inside a vacuum chamber of a magnetron sputtering system, and rotatably fixing a substrate inside the vacuum chamber, spaced apart from the target. A high entropy alloy thin film is deposited on the substrate by high vacuum radio frequency sputtering inside the vacuum chamber.
机译:一种制备高熵合金薄膜涂层的方法包括通过包括五个或更多个元素的电弧熔化原料制备熔融合金,铸造熔融合金进入模具以形成目标,将靶放置在磁控管溅射的真空室内 系统,并旋转地将基板固定在真空室内,与目标间隔开。 通过真空室内的高真空射频溅射在基板上沉积高熵合金薄膜。

著录项

  • 公开/公告号US11098403B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CITY UNIVERSITY OF HONG KONG;

    申请/专利号US201715426164

  • 发明设计人 YANG LU;WEIBING LIAO;

    申请日2017-02-07

  • 分类号C23C14/34;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/50;C22C30;B22D25;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 20:45:00

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