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HIGH ENTROPY ALLOY THIN FILM COATING AND METHOD FOR PREPARING THE SAME

机译:高熵合金薄膜涂层及其制备方法

摘要

A method for preparing a high entropy alloy thin film coating includes preparing a melt alloy by arc melting raw materials including five or more elements, casting the melt alloy into a mold to form a target, placing the target inside a vacuum chamber of a magnetron sputtering system, and rotatably fixing a substrate inside the vacuum chamber, spaced apart from the target. A high entropy alloy thin film is deposited on the substrate by high vacuum radio frequency sputtering inside the vacuum chamber.
机译:用于制备高熵合金薄膜涂层的方法包括:通过电弧熔化包括五个或更多个元素的原材料来制备熔融合金,将熔融合金浇铸到模具中以形成靶,将靶置于磁控溅射的真空室内。系统,并且可旋转地将基板固定在真空室内,并与标靶隔开。通过在真空室内进行高真空射频溅射在基板上沉积高熵合金薄膜。

著录项

  • 公开/公告号US2018223417A1

    专利类型

  • 公开/公告日2018-08-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CITY UNIVERSITY OF HONG KONG;

    申请/专利号US201715426164

  • 发明设计人 WEIBING LIAO;YANG LU;

    申请日2017-02-07

  • 分类号C23C14/34;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/50;C22C30/00;B22D25/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 12:55:54

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