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GALLIUM NITRIDE-ON-SILICON DEVICES

机译:氮化镓 - 硅装置

摘要

A gallium nitride-on-silicon structure is disclosed wherein the two-dimensional electron gas (2DEG) layer is a discontinuous layer comprising at least two 2DEG segments. Each 2DEG segment is separated from another 2DEG segment by a gap. The 2DEG layer may be depleted by a p-doped gallium nitride layer disposed over a portion of the aluminum gallium nitride layer. Additionally or alternatively, trenches can be formed in the structure through the 2DEG layer to create a gap in the 2DEG layer. The electrical component is positioned over at least a portion of the gap.
机译:公开了一种氮化硅 - 硅结构,其中二维电子气(2deg)层是包含至少两个2deg段的不连续层。每个2deg段通过间隙与另一个2deg段分开。 2deg层可以通过设置在氮化铝镓层的一部分上的p掺杂的氮化镓层耗尽。附加地或替代地,可以通过2deg层在结构中形成沟槽以在2deg层中产生间隙。电气部件位于间隙的至少一部分上。

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