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Semiconductor film

机译:半导体膜

摘要

Problem to be solved: to provide a semiconductor film having a very small crystal defect.Solution: there is a corundum type crystal structure formed of. Alpha. - Ga2O3 or. Alpha. - Ga2O3 solid solution, and the crystal defect density of at least one surface of the semiconductor film is 1.0 × 106 / cm2 or less.PreferablyOn the crystal defect density of one surface of the semiconductor filmThe ratio of the crystal defect density of the surface (the back) facing the surface of the semiconductor film isBeyond 1.0More preferablyThe X-ray rocking curve of the (104) plane at least one of the semiconductor films has a half width of 500 arcsec or lessMore preferablySemiconductor filmAs the dopant, the group 14 elements are contained in the proportion of 1.0 × 1016 to 1.0 × 1021 / cm3.Diagram
机译:要解决的问题:提供具有非常小的晶体缺陷的半导体膜。溶液:形成核型晶体结构。 Α。 - Ga2O3或。 Α。 - Ga2O3固溶体,并且半导体膜的至少一个表面的晶体缺陷密度为1.0×106 / cm 2或更低。优选是半导体膜的一个表面的晶体缺陷密度的表面的晶体缺陷密度的比率(面向半导体膜的表面的后部是百叶窗1.0摩尔的表面,优选地,(104)平面的X射线摇摆曲线至少一个半导体膜的半导体膜的半宽度或较小的偏好偏好的掺杂剂,组14元素包含1.0×1016至1.0×1021 / cm3.diagram的比例

著录项

  • 公开/公告号JP2021038136A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-03-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本碍子株式会社;

    申请/专利号JP20200176243

  • 发明设计人 渡邊 守道;福井 宏史;

    申请日2020-10-20

  • 分类号C30B29/16;C30B25/18;C23C16/40;H01L21/365;H01L21/368;H01L21/363;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-24 17:40:24

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