退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
机译:为了在受控的矫顽场中沉积钴膜而进行化学还原的方法以及还原的方法
公开/公告号FR1440186A
专利类型
公开/公告日1966-05-27
原文格式PDF
申请/专利权人 IBM;INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION;
申请/专利号FR19650014745
发明设计人
申请日1965-04-27
分类号C23C18/36;H01F41/24;
国家 FR
入库时间 2022-08-23 14:51:40
机译: 以预定的矫顽力在基板上进行化学还原性沉积钴膜的镀液
机译: 化学还原方法旨在产生沉积在金属表面和非金属表面的金膜
机译: 使用化学还原法和压力辅助热还原法的还原性氧化石墨烯膜的制备方法,由其制备的还原性氧化石墨烯膜和包括该还原性氧化石墨烯膜的石墨烯电极