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A method for warmth treatment of highly pure semiconductor material by current flowing in said semiconductor

机译:通过在所述半导体中流动的电流对高纯半导体材料进行温热处理的方法

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号DE1262472B

    专利类型

  • 公开/公告日1968-03-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;

    申请/专利号DE1956S049453

  • 发明设计人 RUMMEL DR. THEODOR;

    申请日1956-07-12

  • 分类号C23C16/46;H05B3/00;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 13:23:42

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