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A method for the production of semiconductor components according to the planar technology, in particular of double diffused germanium - bipolar planar transistors

机译:一种根据平面技术,特别是双扩散锗双极平面晶体管的半导体组件的制造方法

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号DE1764353A1

    专利类型

  • 公开/公告日1971-07-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SIEMENS AG;

    申请/专利号DE19681764353

  • 发明设计人 SCHEMBSWOLFGANGDIPL.-PHYS.;

    申请日1968-05-21

  • 分类号H01B;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 09:41:37

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