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R.F.SPUTTER PLATING METHOD AND APPARATUS EMPLOYING CONTROL OF ION AND ELECTRON BOMBARDMENT OF THE PLATING

机译：射频溅射镀膜的方法和离子镀的电子设备控制

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公开/公告号US3562142A

专利类型
公开/公告日1971-02-09

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申请/专利权人 VARIAN ASSOCIATES;
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申请/专利号USD3562142
发明设计人 LAWRENCE T. LAMONT JR.;
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申请日1968-10-30
分类号C23C15/00;
国家 US
入库时间 2022-08-23 09:09:13

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