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Schottky diode for large currents - provided with molybdenum rectifier contact instead of chromium contact to improve electric characteristics at elevated temps

机译:肖特基二极管,用于大电流-配备钼整流器触点而不是铬触点,以改善高温下的电特性

摘要

Schottky diode (rim diode) for currents up to 800 A comprises a silicon wafer provided with an epitaxial monocrystalline Si layer onto which a Mo layer is applied forming a rectifier contact. The Mo layer is provided with a layer of a readily soldering metal, pref. Sn or Ag, and so is the lower electrode (pref. Ti) placed on the heavily doped underside of the silicon wafer. A Si3N4 layer provided with a window is pref. placed between Mo and the epitaxial layer which may additionally bear a SiO2 layer.
机译:电流高达800 A的肖特基二极管(边缘二极管)包括一个硅晶片,该晶片具有外延单晶Si层,在其上施加了Mo层以形成整流器触点。 Mo层设有一层易于焊接的金属,优选。 Sn或Ag,下部电极(优选Ti)放置在重掺杂的硅片下表面上。具有窗口的Si 3 N 4层是优选的。在Mo和外延层之间可以放置SiO 2,该外延层可以另外带有SiO 2层。

著录项

  • 公开/公告号FR2218656A1

    专利类型

  • 公开/公告日1974-09-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 INTERNATIONAL RECTIFIER CORPUS;

    申请/专利号FR19740005575

  • 发明设计人

    申请日1974-02-19

  • 分类号H01L9/00;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-23 05:11:58

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