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Method including exposure of deformation imaging member through lenticular lens element

机译:包括通过双凸透镜元件使变形成像构件曝光的方法

摘要

A method is set forth for increasing the sensitivity and speed of a deformation imaging system. A lenticular lens array is interpositioned between the deformation imaging member and the imaging lens to thereby focus the radiation into a sharp relatively high intensity dot or line pattern.
机译:提出了一种用于提高变形成像系统的灵敏度和速度的方法。双凸透镜阵列插入在变形成像构件与成像透镜之间,从而将辐射聚焦成尖锐的相对高强度的点或线图案。

著录项

  • 公开/公告号US3973958A

    专利类型

  • 公开/公告日1976-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 XEROX CORPORATION;

    申请/专利号US19730429446

  • 发明设计人 LLOYD F. BEAN;

    申请日1973-12-28

  • 分类号G03G16/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-23 01:30:15

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