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METHOD TO DIFFUSE ARSENIC IN A SILICONE WAFER

机译：在硅晶片中扩散砷的方法

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摘要

PURPOSE:To exactly control the diffusion in a silicone wafer by using silicone arsenic crystal which is chemically stable.
机译：目的：通过使用化学稳定的硅砷晶体来精确控制硅晶片中的扩散。

著录项

  • 公开/公告号JPS5217765A

    专利类型

  • 公开/公告日1977-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FURUKAWA KOUGIYOU KK;

    申请/专利号JP19750094073

  • 发明设计人 SUDOU ICHIROU;ISHIGURO SABUROU;

    申请日1975-07-31

  • 分类号C30B31/06;H01L21/223;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-23 01:12:35

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