Hal代表反应性卤素原子,
X代表卤素,低级烷氧基,低级烷硫基,苯氧基,苯硫基--NH .2,## STR2 ##或式## STR3 ##的基团W.sub.1和W.sub.2各自独立地表示直接键,## STR4 ## Z表示氢,低级烷基或Q 1和Q 2中的每一个独立地代表脂族或脂环族基团的羟基-低级烷基,R 1,R 2,V 3各自独立地表示。在图1中,V 2,Y 1和Y 2独立地表示各自被卤素,羟基或氰基取代的低级烷基,或低级烷基或苄基,或一对取代基R 1和R 2和Y 1和Y 2以及与其相连的氮原子一起独立地代表5元或6元杂环,或
R 1,R 2和V 1和Y 1,Y 2和V 2各自与氮原子一起它独立地代表吡啶环,或者,如果W.sub.1和W.sub.2是Z和V.sub.1以及Z和V.sub.2各自的基团, > N--Q 1 -N <或> N--Q 2 -N <也独立地表示二价杂环基。代表有机或无机酸的阴离子,n为1或2,条件是根据填充工艺对纤维素材料进行可选的后处理。
公开/公告号US4246670A
专利类型
公开/公告日1981-01-27
原文格式PDF
申请/专利权人 CIBA-GEIGY CORPORATION;
申请/专利号US19790058045
申请日1979-07-16
分类号D06M13/46;D06P3/60;D06P1/66;C07D251/50;
国家 US
入库时间 2022-08-22 14:50:01