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机译:对于在半导体中掺杂有导电类型的区域的实施例以及根据此制造的晶体管
公开/公告号FR2288391B1
专利类型
公开/公告日1982-10-01
原文格式PDF
申请/专利权人 SIEMENS AG;
申请/专利号FR19750031393
发明设计人
申请日1975-10-14
分类号H01L21/265;H01L21/225;
国家 FR
入库时间 2022-08-22 12:33:33
机译: 对于在半导体中掺杂有导电类型的区域的实施例以及根据该方法制造的晶体管
机译: 用于制造晶体管的半导体的实施例的简要说明,该半导体的区域强烈地位于轻掺杂区域之间。
机译: 用于制造具有在轻掺杂区之间的高掺杂区的半导体的方法,用于制造晶体管