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机译:硅白金-钛-铂金多层接触的制作方法
公开/公告号CS219768B1
专利类型
公开/公告日1983-03-25
原文格式PDF
申请/专利权人 NOVOTNYZDENEKCS;VANEKEVZENCS;
申请/专利号CS19810001557
发明设计人 VANEKEVZENCS;NOVOTNYZDENEKCS;
申请日1981-03-04
分类号B05D5/12;
国家 CS
入库时间 2022-08-22 11:15:57
机译: 在硅衬底上生产肖特基势垒硅化物接触的方法和带有肖特基势垒硅化物接触的硅半导体器件
机译: 在硅衬底上生产肖特基势垒硅化物触点的方法以及具有肖特基势垒硅化物触点的硅半导体器件