首页> 外国专利> Photocuring of organopolysiloxanes devoid of Si-H bonds and containing no sites of activated ethylenic unsaturation

Photocuring of organopolysiloxanes devoid of Si-H bonds and containing no sites of activated ethylenic unsaturation

机译:不含Si-H键且不包含活化的烯键式不饱和位点的有机聚硅氧烷的光固化

摘要

An organopolysiloxane composition is facilely photocured, e.g., into a variety of non-stick coatings, by subjecting to a photocross- linking amount of ultraviolet irradiation, admixture of (i) a polysiloxane comprised of hydroxysilyl groups devoid of Si-H bonds and containing no organic radicals which include sites of activated ethylenic unsaturation, and (ii) an aminopolyalkoxysilane.
机译:通过进行光致交联量的紫外线照射,轻松地将有机基聚硅氧烷组合物光固化,例如制成各种不粘涂料,将(i)由不含Si-H键且不包含羟基的甲硅烷基组成的聚硅氧烷的混合物有机基团包括活化的烯键式不饱和位点,和(ii)氨基聚烷氧基硅烷。

著录项

  • 公开/公告号US4486281A

    专利类型

  • 公开/公告日1984-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 RHONE-POULENC SPECIALITES CHIMIQUES;

    申请/专利号US19830501912

  • 发明设计人 RAYMOND PIGEON;

    申请日1983-06-07

  • 分类号C08F2/46;C08F30/08;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 07:53:26

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号