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DEVELOPING SOLUTION FOR POSITIVE-ACTING RADIATION-SENSITIVE REPRODUCTION LAYERS

机译:积极应对辐射敏感的复制层的解决方案

摘要

A developer composition for positive photosensitive lithographic printing plates and photoresists comprising an aqueous solution of an inorganic lithium compound and sodium metasilicate.
机译:用于正型光敏平版印刷版和光致抗蚀剂的显影剂组合物,其包含无机锂化合物和偏硅酸钠的水溶液。

著录项

  • 公开/公告号DE3270990D1

    专利类型

  • 公开/公告日1986-06-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AMERICAN HOECHST CORPORATION;

    申请/专利号DE19823270990T

  • 发明设计人 SHANE HSIEH;

    申请日1982-07-21

  • 分类号G03F7/26;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-22 07:32:41

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