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用于借助辐射将图像雕刻进辐射敏感层中、尤其用于激光雕刻的方法

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摘要

本发明涉及一种用于借助辐射将图像雕刻进辐射敏感层中、尤其用于激光雕刻的方法，其中，如此逐点辐射所述层，使得对于像点(P

1. 用于借助辐射将图像雕刻进辐射敏感层中、尤其用于激光雕刻的方法 [P] . 中国专利： CN104584525B . 2017.11.07
2. 借助于在光谱模式中使用的辐射探测器、尤其是X辐射或γ辐射探测器来测量剂量的方法以及使用该方法的剂量测量系统 [P] . 中国专利： CN105008961B . 2017.11.17
3. Method for engraving images with radiation on a radiation sensitive layer, especially for laser engraving [P] . NO321947B1 . 2006-07-24

机译：在辐射敏感层上雕刻带有辐射的图像的方法，尤其是用于激光雕刻的方法
4. METHOD FOR ENGRAVING IMAGES WITH RADIATION ON A RADIATION SENSITIVE LAYER, ESPECIALLY FOR LASER ENGRAVING [P] . 欧洲知识产权局专利： EP2880850B1 . 2018-09-05

机译：在辐射敏感层上雕刻带有辐射的图像的方法，尤其是用于激光雕刻
5. METHOD FOR ENGRAVING IMAGES WITH RADIATION ON A RADIATION SENSITIVE LAYER, ESPECIALLY FOR LASER ENGRAVING [P] . PT975148E . 2007-02-28

机译：在辐射敏感层上雕刻带有辐射的图像的方法，尤其是用于激光雕刻