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Photoablation process for films based on polymers having a perfluoroalkylpolyether structure by means of excimer laser rays

机译：基于准分子激光的基于具有全氟烷基聚醚结构的聚合物的薄膜的光烧蚀工艺

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A photoablation process for coating films based on polymers having a perfluoroalkylpolyether structure by means of excimer laser rays having a wave length ranging from 154 to 350 nm.

机译：通过具有波长范围为154至350 nm的受激准分子激光对基于具有全氟烷基聚醚结构的聚合物的薄膜进行光烧蚀的方法。

著录项

公开/公告号EP0315152A3

专利类型
公开/公告日1990-09-05

原文格式PDF
申请/专利权人 AUSIMONT S.R.L.;
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申请/专利号EP19880118262
发明设计人 MALATESTA VINCENZO;RE ALBERTO;OCCHIELLO ERNESTO;GARBASSI FABIO;
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申请日1988-11-02
分类号G03F7/26;
国家 EP
入库时间 2022-08-22 06:14:11

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