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Structure of memory cell used for gallium arsenide SRAM (GaAs SRAM)

机译:用于砷化镓SRAM(GaAs SRAM)的存储单元的结构

摘要

The memory cell structure comprises a cell latch having cell driving FET's (JD1,JD2) connected to load resistors (RL1,RL2), a pair of read bit lines for simultaneously reading the complementary data from the cell latch,a pair of write bit lines for simultaneously writing the complementary data in the cell latch, a plural read FET's (JR1,JR2) for transferring the complementary voltages (V1,V2) to the read bit lines and a plural write FET's (JW1,JW2) for transferring the complementary voltages of the write bit lines to the cell latch. The cell latch has only a data storing function, the red FET's (JR1,JW2) driving the bit line, thereby increasing the tolerance width of the threshold voltage variation.
机译:该存储单元结构包括:单元锁存器,具有连接至负载电阻器(RL1,RL2)的单元驱动FET(JD1,JD2);用于同时从单元锁存器读取互补数据的一对读取位线;一对写入位线。为了同时将互补数据写入单元锁存器,多个读取FET(JR1,JR2)用于将互补电压(V1,V2)传输到读取位线,以及多个写入FET(JW1,JW2),用于传输互补电压位单元锁存器的写位线的数量。单元锁存器仅具有数据存储功能,红色FET(JR1,JW2)驱动位线,从而增加了阈值电压变化的容限宽度。

著录项

  • 公开/公告号KR910005300A

    专利类型

  • 公开/公告日1991-03-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 경상현;

    申请/专利号KR19890011949

  • 发明设计人 이창석;윤광준;박형무;

    申请日1989-08-22

  • 分类号G11C11/40;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 05:51:57

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