首页> 外国专利> METHOD FOR MEASURING THE THICKNESS OF METAL PLATING ON DIELECTRIC SUBSTRATES AND SENSOR THEREOF

METHOD FOR MEASURING THE THICKNESS OF METAL PLATING ON DIELECTRIC SUBSTRATES AND SENSOR THEREOF

机译:介电基体上金属镀层厚度的测量方法及其传感器

摘要

the invention u043eu0442u043du043eu0441u0438u0442u0441u00a0 to the instrumentation technology, in particular to methods and devices for u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0443u044e u0434u043bu00a0 u0438u0437u043cu0435u0440u0435u043du0438u00a0 thickness on substrate u043fu043eu043au0440u044bu0442u0438u00a0 of metal, and can be u0433u044c used primarily in the production process of semiconductor devices and the devices on the solid body. purpose u0438u0437u043eu0431u0440u0435u0442u0435u043du0438u00a0 u00a0u0432u043bu00a0u0435u0442u0441u00a0 improved accuracy and coverage measurements.a thickness of the metal u0438u0437u043cu0435u0440u0435u043du0438u00a0 u043fu043eu043au0440u044bu0442u0438u00a0 u0437u0430u043au043bu044eu0447u0430u0435u0442u0441u00a0 is u0438u0437u043cu0435u0440u00a0u0435u043cu043eu0435 cover placed in a magnetic u043fu043eu043bu00a0 surface electromagnetic field waves of a certain length, u0438u0437u043cu0435u0440u00a0u044eu0442 u0432u0440u0435u043cu00a0 u0437u0430u043fu0430u0437u0434u044bu0432u0430u043du0438u00a0 phase of these waves in the stretch u0437u0430u043cu0435u0434u043bu00a0u044eu0449u0435u0439 structure and on the basis of the measured values of the u0441u0443u0434u00a0u0442 of u043cu0435u0440u00a0u0435u043cu043eu0439 and u0432u043bu0438u00a0u044eu0449u0438u0445 values.the sensitive element u0434u043bu00a0 u043eu0441u0443u0449u0435u0441u0442u0432u043bu0435u043du0438u00a0 method contains u0434u0438u044du043bu0435u043au0442u0440u0438u0447u0435u0441u043au0443u044e plate on the opposite u043fu043eu0432u0435u0440u0445u043du043eu0441u0442u00a0u0445 which against each other with the two eid u0435u043du0442u0438u0447u043du044bu0445 metal u043fu043eu043au0440u044bu0442u0438u00a0 in the form of a spiral. improving the accuracy of u0438u0437u043cu0435u0440u0435u043du0438u00a0 u0434u043eu0441u0442u0438u0433u0430u0435u0442u0441u00a0 information u0432u043bu0438u00a0u044eu0449u0438u0445 values and the correction of their u0437u043du0430u0447u0435u043du0438u00a0. 2 u0441.u0438 2 u0437.u043f s - lu, 2). (l, c
机译:发明的仪器技术,特别是用于 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u043a u043a u0442 u0440 u0438的方法和设备 u0447 u0435 u0441 u043a u0443 u044e u0434 u043b u00a0 u0438 u0437 u043c u0435 u0440 u0435 u043d u0438 u00a0基板上的厚度 u043f u043e u043a u0440 u044 u0442 u0438 u00a0可以是金属,并且可以主要用于半导体器件和固体器件上的生产过程中。用途 u0438 u0437 u043e u0431 u0440 u0435 u0442 u0435 u043d u043d u0438 u00a0 u00a0 u0432 u043b u00a0 u0435 u0442 u0431 u0431 u00a0提高了精度和覆盖率测量。 u0438 u0437 u043c u0435 u0440 u0435 u043d u0438 u00a0 u043f u043e u043a u0440 u044b u0442 u0438 u00a0 u0437 u0430 u043a u043b u043e u04e u04447 u0442 u0441 u00a0是 u0438 u0437 u043c u0435 u0440 u00a0 u0435 u043c u043e u0435盖被放置在一定长度的电磁 u043f u043e u043b u043b u00a0表面电磁波中, u0438 u0437 u043c u0435 u0440 u00a0 u044e u0442 u0432 u0440 u0435 u043c u00a0 u0437 u0430 u043f u0430 u0437 u0434 u043b u043b u0432 u0430 u043d u0d这些波在根据 u043c u0435 u0440 u00a0 u0435 u043c u043e u0439和 u0432 u043b u0438 u00a0 u044e u0449 u0438 u0445值。原始元素 u0434 u043b u00a0 u043e u0441 u0443 u0449 u0435 u0441 u0442 u0432 u043b u0435 u043d u043d u0438 u00a0方法包含 u0434 u0438 u044d u043b u0435 u0435 u0440 u0438 u0447 u0435 u0441 u043a u0443 u044e在相对的 u043f u043e u0432 u0435 u0440 u0445 u043d u043e u0441 u0442 u0442 u00a0 u0445上彼此相对两个eid u0435 u043d u0442 u0438 u0447 u043d u044b u0445金属 u043f u043e u043a u0440 u044b u0442 u0438 u00a0提高 u0438 u0437 u043c u0435 u0440 u0435 u043d u0438 u00a0 u0434 u043e u0441 u0442 u0438 u0433 u0430 u0435 u0442 u0442 u0441 u00a0信息 u0432 u043b u0438 u00a0 u044e u0449 u0438 u0445值及其 u0437 u043d u0430 u0447 u0435 u043d u0438 u00a0的更正。 2 u0441。 u0438 2 u0437。 u043f s-lu,2)。 (l,c

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号