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Irradiation window structure of the double window type electron beam irradiation apparatus

机译:双窗型电子束照射装置的照射窗结构

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号JPH0429900U

    专利类型

  • 公开/公告日1992-03-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号JP19900069467U

  • 发明设计人

    申请日1990-06-28

  • 分类号G21K5/04;G21K5/00;H01J37/30;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 05:43:26

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