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首页> 外国专利> A method for forming a negative-working, base-developable photosensitive resist composition and a negative photosensitive resist image.

A method for forming a negative-working, base-developable photosensitive resist composition and a negative photosensitive resist image.

机译：一种形成负性可显影基础显影的光敏抗蚀剂组合物和负光敏抗蚀剂图像的方法。

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