首页> 外国专利> MODULATED-STRUCTURE OF PZT/PT FERROELECTRIC THIN FILMS FOR NON-VOLATILE RANDOM ACCESS MEMORIES

MODULATED-STRUCTURE OF PZT/PT FERROELECTRIC THIN FILMS FOR NON-VOLATILE RANDOM ACCESS MEMORIES

机译:非易失性随机存取存储器的PZT / PT铁电薄膜的调制结构

摘要

Modulated-structure polycrystalline or heteroepitaxial multilayers of PZT/PT ferroelectric thin films are deposited on a substrate, preferably by laser ablation. The laser ablation of the PZT/PT layers onto a prepared substrate occurs while maintaining the substrate at a temperature between 380 °C to about 650 °C. The target source for the PZT/PT laser ablated film may be either bulk PZT and PT ceramics or powders or individual metal oxides or metal pellets. The ferroelectric thin film device may be used for a random access memory.
机译:PZT / PT铁电薄膜的调制结构多晶或异质外延多层优选通过激光烧蚀沉积在基板上。将PZT / PT层激光烧蚀到准备好的基板上,同时将基板保持在380°C至约650°C之间的温度。 PZT / PT激光烧蚀薄膜的目标源可以是块状PZT和PT陶瓷或粉末,也可以是单独的金属氧化物或金属颗粒。该铁电薄膜器件可以用于随机存取存储器。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号