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Method of plasma chemical separation from the vapour phase and method of production of a film of diamond-like carbon.

机译:从气相中进行等离子体化学分离的方法以及类金刚石碳膜的生产方法。

摘要

A plasma CVD apparatus comprises a first vacuum enclosure 28 with a plasma generating means 29, an accelerating means 30 for accelerating ions in a plasma toward a substrate 31 and a second vacuum enclosure 27 connected to the first vacuum enclosure 28, so that the plasma gas flows into the second vacuum enclosure 27 and forms a film of uniform and superior quality at high speed.
机译:等离子体CVD装置包括:第一真空罩28,其具有等离子体产生装置29;加速装置30,其用于将等离子体中的离子朝着基板31加速;以及第二真空罩27,其连接至第一真空罩28,从而等离子体气体液体流入第二真空罩27并高速形成均匀且优质的膜。

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