首页> 外国专利> Semiconductor arrangement in which an N-channel MOSFET, a P-channel MOSFET and a non-volatile memory cell are formed in a chip.

Semiconductor arrangement in which an N-channel MOSFET, a P-channel MOSFET and a non-volatile memory cell are formed in a chip.

机译:在芯片中形成有N沟道MOSFET,P沟道MOSFET和非易失性存储单元的半导体装置。

摘要

An n-channel MOSFET (102), a p-channel MOSFET (104) and a nonvolatile memory cell (100) are provided for the same semiconductor substrate (1). The nonvolatile memory cell (100) is formed on the semiconductor substrate (1), the n-channel MOSFET (102) is formed in a p-type well region (11) of the semiconductor substrate (1), and the p-channel MOSFET (104) is formed in an n-type well region (12) of the semiconductor substrate (1).
机译:为同一半导体衬底(1)提供n沟道MOSFET(102),p沟道MOSFET(104)和非易失性存储单元(100)。非易失性存储单元(100)形成在半导体衬底(1)上,n沟道MOSFET(102)形成在半导体衬底(1)的p型阱区域(11)中,并且p沟道在半导体衬底(1)的n型阱区域(12)中形成MOSFET(104)。

著录项

  • 公开/公告号DE69015540T2

    专利类型

  • 公开/公告日1995-05-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TOSHIBA KAWASAKI KK JP;

    申请/专利号DE1990615540T

  • 发明设计人 UEMURA TERUO JP;HANADA NAOKI JP;

    申请日1990-10-05

  • 分类号H01L27/115;H01L27/092;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-22 04:08:18

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号