(C),将紫外线施加到形成在所述表面上的用于形成抗反射膜的溶液,以使溶液固化以形成具有精细粗糙度的透明膜。该生产方法是使用具有以下装置的设备进行的:(a)涂覆装置,用于在阴极射线管的面板的最外表面上涂覆上述用于形成抗反射膜的溶液, P>(b)是用于转移涂覆有溶液的阴极射线管的转移装置,而
(c)是用于在涂覆过程中使涂覆在阴极射线管上的溶液光固化的紫外线施加装置。
在上述方法中,当使用硅醇盐作为金属醇盐时,可以得到阴极射线管。在面板的最外表面上具有由无碱二氧化硅制成的减反射膜,所述减反射膜的Si-O-Si峰强度与Si-OH峰强度的比值在4以下时为4以上。红外光谱。
公开/公告号US5449534A
专利类型
公开/公告日1995-09-12
原文格式PDF
申请/专利权人 HITACHI LTD.;
申请/专利号US19920942397
发明设计人 TOMOJI OISHI;MASAHIRO NISHIZAWA;YOSHIFUMI TOMITA;SACHIKO MAEKAWA;AKIRA KATO;KOJIRO OKUDE;KENJI TOCHIGI;YUTAKA MISAWA;
申请日1992-09-09
分类号B05D3/06;B05D5/06;B05D5/12;
国家 US
入库时间 2022-08-22 04:04:22