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METHOD FOR REDUCING AMOUNT OF HYDROGEN ADSORBED TO DIAMOND SURFACE

机译:减少吸附在金刚石表面的氢量的方法

摘要

PURPOSE: To decrease the amount of hydrogen adsorbed to the surface of a semiconductor diamond before electrical connection while preventing the generation of oxidation on the diamond surface. ;CONSTITUTION: The amount of adsorbed hydrogen on the surface of a semiconductor diamond substrate is reduced by radiating electron rays 9 from an electron gun 8 to the semiconductor diamond substrate surface before electrical connection and exciting the surface of the semiconductor diamond substrate 2 while preventing the oxidation of the substrate.;COPYRIGHT: (C)1995,JPO
机译:目的:减少电连接之前吸附到半导体金刚石表面的氢量,同时防止在金刚石表面产生氧化。组成:通过在电连接之前从电子枪8向半导体金刚石基板表面辐射电子射线9并激发半导体金刚石基板2的表面,同时防止半导体金刚石基板2的表面上的氢吸附,可以减少半导体金刚石基板表面上的氢吸附量。底物的氧化。; COPYRIGHT:(C)1995,JPO

著录项

  • 公开/公告号JPH07300395A

    专利类型

  • 公开/公告日1995-11-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MITSUBISHI HEAVY IND LTD;

    申请/专利号JP19940094788

  • 发明设计人 NISHIMORI TOSHIHIKO;

    申请日1994-05-09

  • 分类号C30B29/04;C30B30/00;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 03:57:34

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