首页> 外国专利> CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF GROWING OXIDE FILMS WITH GIANT MAGNETORESISTANCE

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF GROWING OXIDE FILMS WITH GIANT MAGNETORESISTANCE

机译:巨大磁阻的生长氧化膜的化学气相沉积方法

摘要

A chemical vapor deposition method for forming films or coatings of metal oxide films showing a giant magnetoresistive effect, with the metal oxides having the formula LaxA1-xMnO3 wherein A is selected from the group consisting of barium, calcium, manganese, and strontium, and x is a number in the range of from 0.2 to 0.4. The method uses a liquid source delivery CVD approach, wherein source reagent solution precursor is flash vaporized and is delivered to a CVD chamber (100), wherein it decomposes to deposit the multicomponent metal oxide films with well-controlled stoichiometry.
机译:化学气相沉积法,用于形成具有巨大磁阻效应的金属氧化物膜或膜,化学式为LaxA1-xMnO3的金属氧化物,其中A选自钡,钙,锰和锶,以及x是介于0.2到0.4之间的数字。该方法使用液体源输送CVD方法,其中源试剂溶液前体被闪蒸并输送到CVD腔室(100),在其中它分解成以良好控制的化学计量沉积多组分金属氧化物膜。

著录项

  • 公开/公告号WO9617970A2

    专利类型

  • 公开/公告日1996-06-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS INC.;

    申请/专利号WO1995US15201

  • 发明设计人 LI YI-QUN;ZHANG JIMING;

    申请日1995-11-27

  • 分类号C23C;

  • 国家 WO

  • 入库时间 2022-08-22 03:48:51

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号