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Mass synthesis device and synthesis method of coating layer for circular substrate using high frequency plasma chemical vapor deposition method

机译:使用高频等离子体化学气相沉积法的圆形基板的涂层的质量合成装置和合成方法

摘要

A diamond-like hard carbon film having a circular shape capable of coating a large capacity drum at one time by arranging a pair of a power supply electrode and a ground electrode connected to independent power sources and installing them in a plurality of vacuum reactors is coated by a high frequency plasma chemical vapor deposition Device. /RTI
机译:通过布置一对电源电极和接地电极并连接到独立的电源并将它们安装在多个真空反应器中,可以涂覆一次圆形的类金刚石硬质碳膜,该膜能够一次涂覆大容量的感光鼓通过高频等离子体化学气相沉积装置。

著录项

  • 公开/公告号KR960008697A

    专利类型

  • 公开/公告日1996-03-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 김은영;

    申请/专利号KR19940020259

  • 发明设计人 이광렬;은광용;

    申请日1994-08-17

  • 分类号G11B5/255;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 03:45:25

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