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公开/公告号CN2932338Y
专利类型
公开/公告日2007-08-08
原文格式PDF
申请/专利权人 北京科技大学;
申请/专利号CN200620023059.3
发明设计人 唐伟忠;孟宪明;黑立富;李成明;陈广超;宋建华;吕反修;佟玉梅;
申请日2006-06-09
分类号
代理机构北京科大华谊专利代理事务所;
代理人刘月娥
地址 100083 北京市海淀区学院路30号
入库时间 2022-08-21 22:54:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-08-24
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01K7/00 授权公告日:20070808 终止日期:20100609 申请日:20060609
专利权的终止
2007-08-08
授权
机译: 化学气相沉积法制备金刚石涂层复合体及其用途
机译: 等离子体源和使用等离子体增强化学气相沉积法沉积薄膜涂层的方法
机译:微波等离子体化学气相沉积法制备高导热金刚石涂层石墨
机译:微波等离子体化学气相沉积法制备大面积低温纳米金刚石涂层
机译:使用微波等离子体辅助化学气相沉积法在纯钛上沉积金刚石涂层
机译:使用原子力显微镜对微波等离子辅助化学气相沉积法沉积的多晶金刚石涂层Si_3N_4进行表面粗糙度和形态分析
机译:使用直流等离子体等离子体增强化学气相沉积法合成化学计量的氢化非晶碳化硅薄膜。
机译:H2等离子体预处理对微波等离子体化学气相沉积法垂直排列碳纳米管生长的影响
机译:通过热丝化学气相沉积法和各种接种方法沉积的纳米晶金刚石涂层的表征
机译:自动等离子体温度测量装置的描述