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DEVICE FOR COATING SUBSTRATES IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURE FOR COATING SUBSTRATES IN SEMICONDUCTOR PRODUCTION

机译:用于在半导体生产中涂覆基底的设备,用于在半导体生产中涂覆基底

摘要

In an apparatus for lacquering organs, in a first step lacquers are provided to the substrate 20 by capillary slots 20, and the lacquer layer thickness provided in the second step is reduced and more uniform by the spinning process.
机译:在用于对器官上漆的设备中,在第一步骤中,通过毛细管槽20向基板20提供漆,并且在第二步骤中提供的漆层厚度通过旋转工艺而减小并且更加均匀。

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