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Mask holding method, mask and mask chuck, exposure apparatus using the mask and the mask chuck, and device production method using the exposure apparatus

机译:掩模保持方法,掩模和掩模卡盘,使用该掩模和掩模卡盘的曝光装置以及使用该曝光装置的器件制造方法

摘要

V-shaped linear groove portions are formed at regular intervals and at three positions (with 120° pitches) on a periphery, concentric with a ring-shaped support frame, of an X-ray mask to extend in the radial direction. On the other hand, corresponding mounts, as projecting portions, each having a spherical leading end are disposed at three positions on a mask chuck. The mask is held on the mask chuck at the three positions by engaging the corresponding V-shaped linear groove portions and the projecting portions.
机译:在X射线光罩的与环状的支撑框架同心的周缘上,以等间隔且在径向上延伸的三个位置(间隔120°)形成有V字形的线性槽部。另一方面,在口罩卡盘上的三个位置上设置有分别具有球形前端的作为突出部的对应的安装件。通过使对应的V形线性槽部分和突出部分接合,将掩模在三个位置上保持在掩模卡盘上。

著录项

  • 公开/公告号US5544213A

    专利类型

  • 公开/公告日1996-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CANON KABUSHIKI KAISHA;

    申请/专利号US19940343961

  • 发明设计人 SHINICHI HARA;YUJI CHIBA;

    申请日1994-11-17

  • 分类号G21K5/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 03:38:05

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